蚀刻技术中常见的刻蚀机和工艺参数如下：
1、刻蚀机种类：刻蚀工艺主要分为干法刻蚀和湿法刻蚀，其中干法刻蚀是通过等离子气与硅片发生物理或化学反应（或结合物理、化学两种反应）的方式将表面材料去除，主要用于亚微米尺寸下刻蚀，具有良好的各向异性和工艺可控性，已被广泛应用于芯片制造领域 。湿法刻蚀通过化学试剂去除硅片表面材料，一般用于尺寸较大情况，目前仍用于干法刻蚀后残留物的去除 。
除此之外，还有以下注意事项 ：
1、蚀刻机密封性能要好，以确保腔体内气体流动均匀稳定。
2、蚀刻机的反应室内需要保持良好的真空度，以确保反应过程的稳定性和可重复性。
3、刻蚀工艺中需要控制好气体流量、反应时间、反应温度等参数，以达到理想的刻蚀效果。
4、在使用刻蚀机时，需要注意对设备进行维护和清洁，以延长设备寿命并确保刻蚀质量。
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